在HBM(高帶寬內(nèi)存)市場競爭中,SK海力士與三星的角力持續(xù)升級。作為英偉達當前HBM3E產(chǎn)品的主要供應商,SK海力士已向其交付8層及12層堆疊的HBM3E芯片,并率先完成下一代HBM4的量產(chǎn)體系構(gòu)建。這一進展使其在英偉達基于Rubin架構(gòu)的AI加速器供應鏈中占據(jù)先機。
三星的追趕之路則充滿波折。盡管其12層堆疊HBM3E樣品在去年2月便已開發(fā)完成,但通過英偉達質(zhì)量認證的過程耗時一年半。據(jù)TrendForce分析,這一突破既源于三星對HBM3E性能的持續(xù)優(yōu)化,也與英偉達推進供應商多元化的戰(zhàn)略需求密切相關。然而,有消息指出三星目前僅完成第二輪內(nèi)部晶圓驗收測試,尚未獲得英偉達的最終批準。
技術迭代成為競爭關鍵。三星今年第二季度推出的HBM4樣品雖已通過英偉達初步測試,但仍需完成最終驗證。其優(yōu)勢在于采用4nm工藝制造基礎裸片,并搭配第六代10nm級(1αnm)工藝DRAM芯片,相比SK海力士第五代10nm級(1βnm)工藝更具性能潛力。特別是針對HBM3E的發(fā)熱問題,三星通過去年5月啟動的設計更新,成功解決了技術瓶頸。
市場壓力促使技術規(guī)格不斷攀升。英偉達近期要求供應商將HBM4速度從8Gb/s提升至10Gb/s,以應對AMD明年推出的Instinct MI450計算卡及"Helios"AI機架系統(tǒng)的挑戰(zhàn)。這一需求為三星提供了反超契機——其HBM4在工藝制程上的領先性,可能幫助其滿足英偉達對性能的嚴苛要求。
當前競爭格局呈現(xiàn)雙雄并立態(tài)勢。SK海力士憑借先發(fā)優(yōu)勢占據(jù)市場主動,而三星通過技術迭代與工藝升級持續(xù)施壓。隨著AI計算對內(nèi)存帶寬需求的指數(shù)級增長,HBM市場的技術競賽已進入白熱化階段,兩大存儲巨頭的每一次突破都將重塑產(chǎn)業(yè)格局。
本文鏈接:http://www.yifxia.cn/showinfo-26-183385-0.html三星12層HBM3E通過英偉達測試,HBM4加速追趕SK海力士或迎新機遇
聲明:本網(wǎng)頁內(nèi)容旨在傳播知識,若有侵權(quán)等問題請及時與本網(wǎng)聯(lián)系,我們將在第一時間刪除處理。郵件:2376512515@qq.com